图形流池是使用半导体制造技术生产的。从玻璃基板开始,在表面蚀刻带图案的纳米井以获得最佳簇间距。每个纳米孔都包含DNA探针,用于捕获制备的DNA链,在生成DNA簇时进行扩增。纳米孔之间的区域没有DNA探针。
该过程确保DNA簇只在纳米井内形成,在相邻簇之间提供均匀一致的间距,并在成像过程中实现簇的精确分辨率。最大限度地利用流单元表面导致总体上更高的聚类。
我们专有的排除放大聚类方法进一步增加了数据输出。排除扩增允许在集群生成过程中同时播种(DNA链在纳米井中着陆)和扩增,这减少了单个集群中多个文库片段扩增的机会。这种方法最大限度地增加了来自单个DNA模板的DNA簇所占据的纳米井数量,增加了每次运行的可用数据量。
图形流槽技术,在HiSeq X Ten系统这使得数据密集型应用更具成本效益,包括价值1000美元的人类基因组。的HiSeq 3000/HiSeq 4000系统是第一批使用模式流细胞用于不同基因组应用的Illumina测序仪。
的NovaSeq 6000系统将最新的高性能成像与下一代Illumina图形流池技术相结合。更新的NovaSeq流池设计进一步减小了纳米井之间的间距,显著增加了簇密度和数据输出。